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真空镀膜的种类及特点

  • 文章出处:产品资讯
  • 责任编辑:晶南光学
  • 阅读量:3686
  • 发表时间:2020-12-09

大家都知道镀膜玻璃的生产方法很多,主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等。今天来讲讲镀膜方法的其中一种:"真空磁控溅射法"。

 

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真空镀膜,是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。

 

真空玻璃又可以分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀等

蒸发镀膜:是通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面

溅射镀膜:是用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面

离子镀:蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面

 

真空镀膜特点:

蒸发镀膜:其特点是在真空条件下,材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜,再经高温热处理后,在玻璃表面形成附着力很强的膜层。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。

 

溅射镀膜:“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。

 

离子镀:将蒸发法与溅射法相结合,即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力,有较高的沉积速率,膜的密度高。



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